濺射靶材

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

      濺射靶材的發(fā)展

      各種類型的濺射靶材薄膜材料在半導(dǎo)體集成 電路 (VLSI) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年 以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜替鋁 膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù) (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已 經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新 這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提 出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質(zhì)、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

金屬靶材

     北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

      金屬靶材材質(zhì)分類：

      ⒈金屬靶材鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材  高品質(zhì)、高純靶材歡迎來電咨詢~~~

濺射靶材清潔

      北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

      金屬靶材可以通過四步清潔，第1步用無絨軟布清潔；第二步與第1步類似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。 氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無絨布”進(jìn)行清潔。第四步在qc完有污垢的區(qū)域后，再用高壓低水氣的氬氣沖洗靶材。

石久高研專注15年提供高純靶材 高品質(zhì)、高純靶材歡迎來電咨詢~~