東莞市鼎偉靶材有限公司是專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營(yíng)股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專(zhuān)業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級(jí)專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員和專(zhuān)業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，有很強(qiáng)的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國(guó)內(nèi)外眾多知名子、太陽(yáng)能企業(yè)當(dāng)中，以較的價(jià)比，成功替代了國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評(píng)。
忻州白靶材
東莞市鼎偉靶材有限公司
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公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品：
一、真空鍍膜材料
1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑極、鉑片、鉑粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N T18937853784(不是聯(lián)系方式)
規(guī)格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格戶要求定做） 鉑粒（規(guī)格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
鉑片（根據(jù)戶要求定做）
鉑粉（根據(jù)戶要求定做）
半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材是靶材市場(chǎng)的主要組 成之一。在1991年的靶材市場(chǎng)銷(xiāo)售額中，有約’"60%為半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材，35%用于記錄介質(zhì)領(lǐng) 域，5%為顯示領(lǐng)域用靶材及其他。近年來(lái)，半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材以近10%的年長(zhǎng)率長(zhǎng)［ 在硅片制成各種晶體管、二極管等元器件后，根據(jù)路設(shè)計(jì)要求，將這些元器件用屬薄膜線條連接起來(lái)，形成有各種功能的集成路的工藝稱(chēng)為屬化。屬化工藝是硅集成路制造工藝中非常重要的環(huán)節(jié)。屬化系統(tǒng)和屬化工藝的優(yōu)劣 會(huì)影響路的能和可靠。
【原創(chuàng)內(nèi)容】
其是采用屬銦進(jìn)行帖合的比較容易進(jìn)行清潔和重使用。如果是采用其他帖合劑（括環(huán)氧樹(shù)脂）則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背靶表面處理后才能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶提供的已使用過(guò)的背靶后，我們會(huì)首先進(jìn)行卸靶處理（如適用）并且對(duì)背靶進(jìn)行wq檢查，檢查的重點(diǎn)括背靶的平整度，完整及密封等。我們會(huì)通知需要進(jìn)行溫帖合的條件下，無(wú)氧化銅容易被氧化和生翹曲,所以會(huì)使用屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些屬靶材的熱膨脹系數(shù)無(wú)法與無(wú)氧銅匹配，同樣也需要使用能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶提供的已使用過(guò)的背靶后，我們會(huì)首先進(jìn)行卸靶處理（如適用）并且對(duì)背靶進(jìn)行wq檢查，檢查的重點(diǎn)括背靶的平整度，完整及密封等。我們會(huì)通知導(dǎo)致在濺射過(guò)程中熱量無(wú)法散最終會(huì)造成靶材裂或脫靶為確保足夠的導(dǎo)熱，可以在極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請(qǐng)意一定要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時(shí)用壓縮空氣qc腔體四周前期濺射剩余物，再用氧化鋁浸漬過(guò)的紙輕輕的對(duì)表面進(jìn)行拋光。紗紙拋光后,再用酒精，和去離子水清洗，同的保護(hù)手套，{jd1}避免用手直接接觸靶材二、靶材清潔靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。屬靶材可以通過(guò)四步清潔，{dy}步用在中浸泡過(guò)的無(wú)絨軟布清潔；路進(jìn)行判斷。在確定極不存在短路后，可以進(jìn)行檢漏檢查，將水通入極確定是否存在漏水現(xiàn)象。五、靶材預(yù)濺射靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射，可以起到清潔靶材表面的作
