東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)純屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，有很強(qiáng)的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名子、太陽能企業(yè)當(dāng)中，以較的價(jià)比，成功替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評。
磁控濺射Ir銥顆粒
東莞市鼎偉靶材有限公司
聯(lián)系人：肖先生
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公司主要經(jīng)營產(chǎn)品：
一、真空鍍膜材料
1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
純屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
銥錸合靶材
Ir-Re
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
銦錫合靶材
In-Sn
99.99%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鉬硅合靶材
Mo-Si
99.5%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鉬鈮合靶材T18937853784(不是聯(lián)系方式)
Mo-Nb
99.95%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鋁合靶材
Ni-Al
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鉻合靶材
Ni-Cr
99.95%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鉻硅合靶材
Ni-Cr-Si
99.95%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鐵合靶材
Ni-Fe
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鈮鈦合靶材
Ni-Nb-Ti
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳鈦合靶材
Ni-Ti
99.95%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鎳釩合靶材
Ni-V
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
釤鈷合靶材
Sm-Co
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
銀銅合靶材
Ag-Cu
99.99%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
銀錫合靶材
Ag-Sn
99.99%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鉭鋁合靶材
Ta-Al
99.9%
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
鋱鏑鐵合靶材
Tb-Dy-Fe
圓片靶， 矩形靶，圓柱靶，臺(tái)階靶，圖紙加工
半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材是靶材市場的主要組 成之一。在1991年的靶材市場銷售額中，有約’"60%為半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材，35%用于記錄介質(zhì)領(lǐng) 域，5%為顯示領(lǐng)域用靶材及其他。近年來，半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材以近10%的年長率長［ 在硅片制成各種晶體管、二極管等元器件后，根據(jù)路設(shè)計(jì)要求，將這些元器件用屬薄膜線條連接起來，形成有各種功能的集成路的工藝稱為屬化。屬化工藝是硅集成路制造工藝中非常重要的環(huán)節(jié)。屬化系統(tǒng)和屬化工藝的優(yōu)劣 會(huì)影響路的能和可靠。
【原創(chuàng)內(nèi)容】
直接影響真空度獲得和加成膜失敗的可能。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。為保持鍍膜的成分特，濺射導(dǎo)致在濺射過程中熱量無法散最終會(huì)造成靶材裂或脫靶為確保足夠的導(dǎo)熱，可以在極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請意一定要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的我們現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書面通知戶并提供維修報(bào)價(jià)三、裝和運(yùn)輸所有已貼合靶材裝在真空密封塑料袋中，并附有防潮劑。外裝一般為木箱，四周有防撞層，以保護(hù)靶材的保護(hù)手套，{jd1}避免用手直接接觸靶材二、靶材清潔靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。屬靶材可以通過四步清潔，{dy}步用在中浸泡過的無絨軟布清潔；提供的已使用過的背靶后，我們會(huì)首先進(jìn)行卸靶處理（如適用）并且對背靶進(jìn)行wq檢查，檢查的重點(diǎn)括背靶的平整度，完整及密封等。我們會(huì)通知用戶對背靶的檢查結(jié)果，如濺射工藝進(jìn)行過程中靶表面濺射溝區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重暴露屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合提供的已使用過的背靶后，我們會(huì)首先進(jìn)行卸靶處理（如適用）并且對背靶進(jìn)行wq檢查，檢查的重點(diǎn)括背靶的平整度，完整及密封等。我們會(huì)通知用戶對背靶的檢查結(jié)果，如的保護(hù)手套，{jd1}避免用手直接接觸靶材二、靶材清潔靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。屬靶材可以通過四步清潔，{dy}步用在中浸泡過的無絨軟布清潔；
