（含化學(xué)鍍及轉(zhuǎn)化膜處理）工藝現(xiàn)狀和現(xiàn)代環(huán)境及能源要求下的發(fā)展方向，電鑄工藝，對(duì)運(yùn)用電化學(xué)理論解釋電鍍工藝問題做了一定的嘗試。本書主要介紹了電鍍的基本原理、電鍍?nèi)芤旱幕拘阅芘c評(píng)價(jià)和各種實(shí)用電鍍工藝，對(duì)鍍前處理、防護(hù)性鍍層、防護(hù)裝飾性鍍層、功能性鍍層與特種電鍍、化學(xué)鍍、印制板電鍍、轉(zhuǎn)化膜技術(shù)等做了較詳細(xì)的闡述，東莞電鑄，對(duì)電鍍中的清潔生產(chǎn)和資源化問題也做了簡(jiǎn)單的介紹。

真空蒸鍍法：真空蒸鍍可說是{zh0}的附著導(dǎo)電層處理方式，但是由於真空蒸鍍機(jī)的設(shè)備問題、操作技術(shù)及真空度要求等原因，使一般人較少使用。由於其鍍層的厚度及均勻度、附著力等等有{zj0}的品質(zhì)控制，其厚度可控制在數(shù)百A之間，不會(huì)影響將來電鑄后的品質(zhì)，甚至可得{zj0}的品質(zhì)效果，且其蒸鍍耗材的消耗量也相當(dāng)?shù)男　?

電鍍后常見的鍍層主要為銅、鎳、鉻三種金屬沉積層，在理想條件下，電鑄鉆石紋，各層常見的厚度如圖所示，總體厚度為0.02mm左右，但在我們的實(shí)際生產(chǎn)中，電鑄模芯，由于基材的原因和表面質(zhì)量的原因通常厚度會(huì)做的痹燴個(gè)值大許多，不過大型電鍍廠一般可以較好的達(dá)到這樣的要求。理性質(zhì)。

　3、 不受制品大小的限制。只要能夠放入電鍍槽就行。

　　4、 容易制出復(fù)雜形狀的零件。

操作時(shí)間長(zhǎng)。例如：用3A/dmm的陰極電流密度沉積3mm厚的鎳層，需要25h20min。即使用是小薄零件要鍍厚層時(shí)，成本很高，但是電鍍過程中可以無人管理。

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