桌面式濺射儀KT-Z1650PVD水冷式濺射源，可實(shí)現(xiàn)高功率持續(xù)運(yùn)行，有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛倫茲力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)。
桌面式濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；
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控制方式
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7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
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濺射電源
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直流濺射電源
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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功率
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≤1000W
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輸出電壓電流
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電壓≤1000V 電流≤1A
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真空
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機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa
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濺射真空
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≤30Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
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樣品臺(tái)
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可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
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樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速
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8轉(zhuǎn)/分鐘
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樣品濺射源調(diào)節(jié)距離
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40-105mm
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真空測(cè)量
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皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
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預(yù)留真空接口
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KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
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