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科研實驗室用鄭科探KT-Z1650PVD小型真空濺射儀 磁控濺射儀
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鄭州科創(chuàng)實驗儀器設(shè)備有限公司

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實驗室  及*校,科探儀器已經(jīng)成為老師  同學(xué)歡迎和信任的品牌之一               公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會為宗旨,積極設(shè)計開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻于教育和科學(xué),經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)10余項,為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師  同學(xué)強強聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!。             目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實驗電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。
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  KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。


   磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是,在電場內(nèi)在疊加一個磁場,這樣電子在疊加場內(nèi)做螺旋運動,行程很長,每個電子電離的氣體分子比直流多很多很多,所以可以在低電壓下,有較好的真空度。濺射產(chǎn)生同樣的鍍膜效果。但是因為磁控真空度相對高,所以鍍膜的顆粒小,膜層附著力好,靶材的利用率也高。   

在直流濺射過程中,樣品的溫升主要來自于負離子在電場作用下對樣品的轟擊,在磁控濺射中,負離子都被磁場束縛了,所以基本沒有對樣品的轟擊,所以溫升基本沒有,很適合溫度敏感性的樣品制備。








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